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光電直讀光譜儀偶然誤差的相關知識

發(fā)布時間：2020-09-15 09:32:55 　　　　　　　點擊：6372

應用光電直讀光譜分析方法測定試樣中元素含量時，所得結果與真實含量通常是不一致

，總是存在著一定的誤差和偏差

。這里所講的誤差是指每次測量的數(shù)值與真值之間的差值。而偏差是指每次測得的數(shù)值與多次測量平均值之差

。

根據(jù)誤差的性質(zhì)及其產(chǎn)生原因

，誤差可分為：系統(tǒng)誤差（恒定誤差）、偶然誤差（隨機誤差）和過失誤差三種

。

偶然誤差是指由于在測試過程中

，一系列的有關因素微小的隨機波動而形成的具有相互抵償性的誤差、它決定了測定結果的精密度

。在多次分析結果與真實含量比較，是向兩個不同方向偏離

，這時的誤差稱偶然誤差

。偶然誤差有時大，有時小

，有時正，有時負

，但正負的出現(xiàn)的機率基本相等

，并且服從高斯分布定律。隨著測定次數(shù)的增加

，正負誤差相互抵償

，誤差平均值趨向于零

。

測量誤差

偶然誤差的來源

了解偶然誤差的產(chǎn)生原因

，從而尋找減少誤差的方法

，提高分析準確度，就以光電直讀光譜分析而論

，偶然誤差的主要來源有如下：

1.與樣品成分不均勻有關的誤差σ1

，因為光電光譜分析所消耗的樣品很少，樣品中元素分布的不均勻性

、組織結構的不均勻性

，導致不同部位的分析結果不同。不均勻性的主要原因是：

①鋼冶煉過程中帶人夾雜物

。

②在樣品熔煉過程中產(chǎn)生的偏析，插鋁脫氧造成樣品元素分布不均

。

③試樣加工過程中夾入的砂粒和金屬元素

，和磨樣紋路交叉、試樣研磨過熱

、試樣磨面放置時間太長和壓上指紋等因素

。

④試樣在取樣冷卻過程中的缺陷、氣孔

、裂紋

、砂眼造成激發(fā)室氣體純度不高。

2.與激發(fā)試樣的光源不穩(wěn)定的誤差σ2

，產(chǎn)生的主要原因是:

①電源電壓的波動

，光源參數(shù)的偶然變化

。

②激發(fā)光點不穩(wěn)

，電極激發(fā)次數(shù)多造成長尖現(xiàn)象，改變分析間隙的距離

。

③激發(fā)氬氣電極架的污物清理

。

3.與測光有關的誤差σ3，產(chǎn)生的主要原因是:

①與電源電壓的波動有關

，與倍增管的高壓電源穩(wěn)壓有關

，與放大器的穩(wěn)定有關。與元素的積分電容

、元素通道的穩(wěn)定有關

。綜合.上述用測光精度指標來衡量。最好達到≤0.2%

。

②與選擇的分析條件有密切關系

。氬氣的純度和流量壓力的瞬時變動。子燃

、沖洗

、積分時間的選擇，電學參數(shù)的選擇等

。

根據(jù)誤差相加定律

，光電光譜分析的總誤差。是由上述各個單元誤差疊加的結果

。
　

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